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株式会社ホロン – 半導体検査装置の開発、製造、販売、保守サービス


株式会社ホロン – 半導体検査装置の開発、製造、販売、保守サービス
 

ホロンのものさしはナノメートル見えない世界を測ります

ホロン(HOLON)とはハンガリー生まれの哲学者アーサー・ケストラーの造語で、ギリシャ語で「全体」を表す「HOLOS」に「個」「部分」を表す「ON」を結びつけたもので、個人と集団、個と全体との関係が有機的に調和していることを意味します。

すなわち、より大きなレベルから見ると全体を構成する一部であるが、より小さなレベルから見ると多くのものによって構成された、あるまとまりを持った全体ということです。

ホロンを構成する社員一人一人の能力を最大限に引き出し、それを有機的に調和・集結して製品の創造に結実させていくことで、社会の発展に貢献致します。

ホロンの製品とは

当社は、半導体製造時に使用されるマスク及びウエハが正しく設計されているかを(マスク及びウエハは下図「ステッパーの原理」をご参照ください)電子ビームを使用し、検査・測定する装置を製造しております。

製品情報

  • EMU270A
    ホロンは超微細パターンに対応するため、収差補正機能付レンズ※1を搭載したCD-SEMを世界で初めて商品化しました。従来機に比べ分解能を50%向上させ、1.5nm(1kV)を達成しました。これにより再現精度も格段に向上し、業界最高性能を誇っています。また、チャージアップ対策については、これまでに培ったノウハウを最適化し、あらゆるサンプルでチャージフリーを実現。光ナノインプリント用モールドの観察・計測にも対応しています。

 

 

  • EBLITHOシリーズ
    ■EBLITHOは、微細性と生産性を満たす完全周期ナノ構造をEpi基板に非接触で転写できます。
    ■ステンシルマスクを用いて高スループットを実現し、低CoO (Cost of Ownership)を達成しています。
    ■ナノインプリント用大面積モールド(10mm□領域)に微細パターンを10秒で転写できます。基本仕様substrates processable 2”~6 ”φ
    Stage available for warpage of a 200nm substrate (Option)

 

 

  • Charge-Free SEMシステム
    ホロンは、フォトマスク(絶縁物)の観察・計測で培った技術を基に幅広い分野で使用していただくため、Charge-Free SEM 「CF-01」 を開発。
    石英をはじめとする絶縁物を蒸着(コーティング)することなく、そのまま観察可能です。
    CF-01は、試料室内の圧力を高く保ち、一定の風‘Wind’を与えることでチャージアップを抑制しています。基本仕様分解能 4nm (1kV)
    substrates processable 2”~6 ”φ

 

 

  • DISシリーズDIS-05は、光学式欠陥検査装置で検出された微小欠陥やパーティクルの形状をSEM像で、より詳しく観察し、再分類します。
    そしてこれらの観察や画像の取得・分類は自動で行われます。マスク上の欠陥がウエハ上に転写されたとき、どのように転写されるかシミュレーションする機能も持っています。また、マスク上に描画されたパターンとCADデータとの比較も可能です。

 

 

製品情報の詳細はこちらをご覧ください。

 

 

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